28.03.2025

Новый российский литограф позволит выпускать чипы по технологии 350 нм

ЗНТЦ завершил опытно-конструкторские работы по созданию первого отечественного фотолитографа (установка совмещения и проекционного экспонирования) с разрешением 350 нанометров (нм) – ключевого элемента при производстве микросхем. Установка принята государственной комиссией, в работе которой участвовали представители отраслевых организаций и крупнейших российских производителей микроэлектроники.

Литограф имеет рабочее поле с площадью 22 х 22 мм и способен обрабатывать пластины, имеющие диаметр в 200 мм. Кроме того, впервые в такого рода отечественных разработках, решили не применять ртутную лампу — ее заменили на более долговечный и, к тому же, более мощный твердотельный лазер.

В настоящее время в ЗНТЦ заняты адаптацией техпроцессов под требования потребителей, а также проводят переговоры о будущих поставках установок для новых полупроводниковых производств и модернизации уже действующих. Одним из крупных заказчиков называют «Микрон», что вполне предсказуемо. К слову, ЗНТЦ обещает создать 130-нм литограф уже в 2026 году.

Пресс-служба Зеленоградского нанотехнологического центра